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Plasma Processes for Semiconductor Fabrication - Cambridge Studies in Semiconductor Physics and Microelectronic Engineering
W. N. G. Hitchon
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Plasma Processes for Semiconductor Fabrication - Cambridge Studies in Semiconductor Physics and Microelectronic Engineering
W. N. G. Hitchon
Self-contained book providing an up-to-date description of plasma etching and deposition in semiconductor fabrication. Presents the basic physics and chemistry of these processes, and shows how they can be accurately modelled. Suitable as a graduate-level textbook, and will also be a useful reference for practising engineers in the semiconductor industry.
232 pages, 31 b/w illus. 2 tables 33 exercises
| Medien | Bücher Taschenbuch (Buch mit Softcover und geklebtem Rücken) |
| Erscheinungsdatum | 29. September 2005 |
| ISBN13 | 9780521018005 |
| Verlag | Cambridge University Press |
| Seitenanzahl | 232 |
| Maße | 178 × 254 × 14 mm · 414 g |
| Sprache | Englisch |
| Serienredakteur | Ahmad, Haroon |
| Serienredakteur | Broers, Alec |
| Serienredakteur | Pepper, Michael |
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